设备名称 Equipment Name

槽式RCA清洗设备 Batch-type RCA Cleaning Equipment

设备型号 Equipment Model

SC-CSZJ9600E-20F

设备用途 Equipment Application

用于扩散后的硅片去绕镀、清洗处理。

Used for wrap around removal & cleaning of the diffused silicon wafers.

工艺流程 Process Flow

去绕镀→后清洗→酸洗→后清洗→酸洗→预脱水→烘干 （供参考）  

Wrap Around Removal → Post-clean→ Acid Clean → Post-clean→Acid Clean→ Hot Water Drying → Drying (for reference)

技术特点  Features

1、产能：400片/批，9600片/小时（210硅片）,480片/批，12000片/小时（182硅片）。

Throughput: 400pcs/batch, 9600pcs/h(210mm wafer),480pcs/batch, 12000pcs/h (182mm wafer).

2、支持多种添加剂技术。

Various additive technologies available.

3、支持最薄120μm硅片。

Wafer thickness down to 120μm.

4、洁净区域干燥，自洁净系统。

With dry clean area and self-cleaning system.

5、快速换液，在线换液。

Quick inline bath change.

6、支持MES、RFID及选配在线称重功能。

Available with MES, RFID system, inline weight testing optional.

设备参数 Parameters